第十章 其它的工业技术
10.5 应用磁流变液体的光学及半导体元件的抛光方法
项目负责单位、联系人
推荐单位：国家科研机关《白俄罗斯科学院雷科夫热质研究所》
地址：220072，明斯克市，普罗夫卡大街15号
电话：+375 (17) 284-21-38, 传真：+375 (17) 292-25-13
项目简介
磁流变抛光工艺（TMP）是终端计算机控制的半导体抛光，几何精确率高，这种抛光在磁场的作用下充分利用了磁流变液体（MRZH），在这种磁场下液体的粘稠会增加可塑性，可以抛光各种材料。
项目描述
磁流变抛光工艺（TMP）借助于各种结构的磁流变模具（MMP，是插图中所展示的各种磁流变模具之一）实施抛光。磁流变模具
（MMP）属于基础车床，其示意图和结构不受光学和半导体零件材料的型号及品种限制，磁流变抛光设备完全是自动化的，电脑控制，而且它区别于传统抛光设
备，不用给每个需要抛光的部分测量尺寸。
利用磁流变和基础车床能够给各种形状的零件抛光，如球形的，非球形的，凸起的和凹陷的。范围可以从5毫米至2米甚至更多。磁流变抛光还能处理其它材料。所有的光学玻璃，硅微晶玻璃，石英，碳化硅，蓝宝石，硅，砷化物，镓，锗，硫化物，砷化物，锌，氟化钙，钡，锂，不锈钢。
技术类型
经济技术优势
磁流变抛光工艺（TMP）保障获取高质量的半导体产品，使其表面更加符合工艺标准，中等不光滑表面的数值Rq 能够达到3 ÷ 10埃，而计算偏差的公式为σ rms ± λ/60÷λ/100 (λ=0,6328微米)。
项目创新点
同磁流变抛光中心的光学电子企业及车床企业共同开发的这项技术进行半导体零件的抛光，精密欧姆表仪器的加工极其半导体板的制作。
推介该技术的领域
联邦国立通用企业——“光学”科学生产联合企业（位于莫斯科市）。
关键词
磁流变抛光工艺，磁流变液体，磁流变模具，光学和半导体零件。
项目目前所处阶段
知识产权资格
技术应用领域
磁流变抛光工艺，以及所研发的设备能够应用到下列生产当中：
IRC欧洲创新驿站分类信息
技术适用地区
实践经验
白俄罗斯科学院热质研究所从1990年开始进行磁流变抛光领域的研究工作，还同美国罗切斯特市的在学的光学生产中心在研发用
于光学零件的磁流变液体抛光方面进行了为期几年的合作，其结果创立的磁流变抛光的革命性工艺得到了世界的认可。国际专业术语为
magnetorheological finishing (MRF)。
2006年至2008年白俄罗斯科学院A.B.雷科夫热质研究所同俄联邦国立通用企业——“光学”科学生产联合企业共同进行了借助于磁流变液体为光学仪器表面抛光的模具的试验样品的研发工作。
2008年白俄罗斯科学院热质研究所与俄罗斯科学院机关高纯物质化学研究所就签署双边创造性合作的协议问题进行了研讨，其成果证实了磁流变抛光工艺的发展潜力。
对周围环境的影响
在应用磁流变抛光工艺时需严格遵守广泛应用于光学电子工业领域有关材料抛弃光生产中的规章制度，磁流变液体不会产生有毒物质，对周边环境无任何影响。
应用于磁流变抛光工艺的磁流变液体是无毒的，不会对周边环境造成不良影响。
合作形式
转让技术的限制和条件
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转让技术时提供的支持