Технологический процесс повышения износостойкости голографических рабочих матриц Раздел ЗАЩИТНЫЕ ПОКРЫТИЯ Отрасль промышленности Голография Проектирование и конструирование электронных приборов и радиоэлектронной аппаратуры Отделка поверхностей и нанесение покрытий Программа Идентификация Область применения Технологический процесс (КМРИ.25271.00149) предназначен для повышения износостойкости голографических рабочих матриц при тиснении с них голографической продукции, повышения производительности процесса тиснения, снижения себестоимости голографической продукции. Процесс может быть адаптирован для увеличения износостойкости трущихся деталей, снижения коэффициента трения между ними, увеличения срока их эксплуатации. Описание Повышение износостойкости рабочих матриц основано на защите их голографического микрорельефа тончайшим сверхтвердым покрытием из алмазоподобного углерода, не искажающем дифракционной эффективности голографической продукции. Толщина защитного углеродного покрытия не превышает 100 нм. Требуемая толщина покрытия задается параметрами процесса. На защищаемую поверхность рабочих матриц защитное покрытие наносится методом плазменного осаждения. Технологический процесс может быть реализован на серийных вакуумных установках с их минимальными переделками под требования процесса. Разработчиками процесс реализован с использованием вакуумной установки УВН-71П-3 после ее соответствующей модернизации. Научно-технический уровень Аналогов разработанному технологическому процессу не выявлено. Стоимость нанесения износостойкого защитного покрытия не превышает 8—10 % стоимости голографической рабочей матрицы при увеличении ее износостойкости в ~2 раза. На процесс подана заявка на получение патента РБ. Процесс нанесения защитных покрытий не ухудшает экологическую обстановку окружающей среды. Степень готовности Изготовлена опытная партия голографических рабочих матриц с модифицированной поверхностью. Внедрен технологический процесс изготовления модифицированных рабочих матриц. Ожидаемый результат Снижение себестоимости голографической продукции. Форма реализации Разработчик готов на договорной основе адаптировать технологический процесс повышения износостойкости голографических рабочих матриц и вакуумное оборудование под условия заинтересованного предприятия.	Организация разработчик Научный инженерный центр «Плазмотег» ФТИ НАН Беларуси Адрес: 220141, г. Минск, ул Купревича, 1, корп. 3 Тел.: (+375 17) 263-59-20 Факс: +375 (17) 211-83-71 E-mail: pec@bas-net.by WWW: http://plasmoteg.org.by/ Директор: Точицкий Эдуард Иванович
Разработка сайта: Adashkevich@tut.by © Государственный комитет по науке и технологиям Республики Беларусь, 2007 г.