Установка контроля отклонений от плоскостности полупроводниковых пластин ЭМ-6319 Раздел ЭЛЕКТРОНИКА. ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ Отрасль промышленности Технология и оборудование для электронного и радиотехнического производства Программа Оптотех Область применения Для контроля отклонений от плоскостности полупроводниковых пластин, которые находятся в «выпрямленном» состоянии. В установке использован метод многоканального интерферометра. Описание Установка предназначена для использования на предприятиях электронной промышленности как при производстве полупроводниковых кремниевых пластин, а также подложек из арсенида галлия, сапфира и кремния на сапфире, так и для их сортировки на три сорта по заданным оператором параметрам непосредственно перед процессом фотолитографии. Разработанная установка позволяет измерять интерферометрическим методом отклонения от плоскостности рабочей поверхности кремниевых полупроводниковых пластин и подложек. • Диаметр контролируемых пластин — 100; 150; 200 мм; • погрешность измерений отклонений от плоскостности — 50 нм; • среднее квадратическое отклонение случайной составляющей погрешности измерений — 20 нм • максимальный перепад высот рельефа поверхности пластины на длине 10 мм — не более 7 мкм • кинематическая производительность, пластин/ч: — для пластин диаметром 100 мм — 90 — для пластин диаметром 150 мм — 75 — для пластин диаметром 200 мм — 60 Научно-технический уровень По своим основным техническим параметрам разработанная установка превосходит единственный отечественный образец ЭМ-6019А и соответствует лучшему на сегодняшний день мировому образцу фирмы ADE, выгодно отличаясь от них по цене. Степень готовности Выпущена установочная серия. Ожидаемый результат Применение установки позволит снизить процент брака производимых микросхем, поскольку топологический рисунок с субмикронными элементами формируется в слое фоторезиста с помощью проекционных объективов, имеющих глубину резкости в несколько микрометров, что не позволяет получить качественные микросхемы на пластинах с такой же кривизной рабочей поверхности из-за расфокусировки изображения. Форма реализации Поставка готовой продукции.	Организация разработчик   НПРУП «КБТЭМ-ОМО» Адрес: 220763, г. Минск, пр-т Партизанский, 2 Тел.: (017) 221-71-28 Факс: (017) 226-12-05 E-mail: zvp@kbtem.avilink.net, dvt@kbtem.avilink.net WWW: http://www.planar.by Директор: Зуев Владимир Павлович
Разработка сайта: Adashkevich@tut.by © Государственный комитет по науке и технологиям Республики Беларусь, 2007 г.