Раздел
|
ЗАЩИТНЫЕ ПОКРЫТИЯ
|
Отрасль промышленности
|
Технология и оборудование для электронного и радиотехнического производства
|
Программа
|
Малотоннажная химия
|
Область применения
|
Предприятия электронной промышленности для предварительной полировки изделий оптики и электроники.
|
Описание
|
Разработана концентрированная полирующая суспензия на основе диоксида кремния для стадии предварительной полировки пластин монокристаллического кремния. Характеристики: • плотность — 1,075—1,085 г/см3; • содержание SiO2, масс. — 12,5 %; • рН суспензии при 20 °С — 11,8—12; • размер частиц SiO2 — 10—40 нм; • цена за 1 л суспензии — 3,3—4,5 у.е.; • внешний вид — жидкость молочного цвета, без посторонних механических включений; • вязкость полирующей суспензии равна 1,25 мПа*с; • гарантийный срок хранения суспензии при соблюдении требований разработанных технических условий составляет 6 месяцев.
|
Научно-технический уровень
|
Параметры полирующей суспензии соответствуют лучшим мировым образцам (например, «Fudjimi» (Япония),Nalko (США) ).
|
Степень готовности
|
Организовано опытно-промышленное производство.
|
Ожидаемый результат
|
Применение полирующей суспензии для стадии предварительной полировки пластин монокристаллического кремния позволит увеличить скорость предварительной полировки пластин и снизить трудоёмкость операции на 20—30 %. отказаться от импортных материалов и снизить затраты на производство единицы конечной продукции.
|
Форма реализации
|
Реализация суспензии по договорам. Срок окупаемости проекта 2—3 года.
|